„Samsung“ 2025 m. Pradžioje įvesti aukštą NA EUV litografijos aparatą, pagreitindamas 1 nm lusto kūrimą

Pranešama, kad „Samsung Electronics“ 2025 m. Pradžioje ruošiasi į savo pirmąjį aukštą NA EUV (ekstremalų ultravioletinį) litografijos aparatą, žymintį didelę pažangą Korėjos technologijų milžine, gaminant pažangiausią puslaidininkių gamybą.Ši novatoriška technologija, kurią teikia tik Olandijos įmonė ASML, yra labai svarbi procesams, mažesniems nei 2Nm.Pramonės stebėtojai Korėjoje tikisi, kad „Samsung“ paspartins savo pastangas komercializuoti 1NM lustų technologiją.

Kiekvienos aukštos NA EUV litografijos mašinos kaina yra maždaug 350 mln. USD, žymiai didesnė nei „ASML“ standartinės EUV serijos, kainuojančios nuo 180 iki 200 milijonų dolerių.Kai skiriamoji geba yra 8 nm, o tranzistoriaus tankis tris kartus didesnis nei žemų NA sistemų, aukštos NA EUV mašinos siūlo didžiulę vertę.

Tikimasi, kad „Samsung“ pirmasis aukšto NA EUV įrenginys, ASML EXE: 5000 modelis, bus pristatytas 2025 m.2025 m.

Aukšta NA EUV technologija pranoksta esamas EUV sistemas, leidžiančias sukurti tikslesnius grandinių dizainus, tinkančius lustas žemiau 5 nm slenksčio, pavyzdžiui, sistemos puslaidininkių procesoriams ir GPU.Nors „Standard EUV“ palaiko mazgus iki 5 nm, aukštas NA EUV gali pasiekti mažesnius kaip 2Nm dydžius, padidindamas našumą ir sumažindamas ekspozicijos leidimus, o tai sumažina gamybos sąnaudas.Naujausi Belgijos IMEC tyrimai bendradarbiaujant su ASML parodė, kad vienas didelis NA EUV poveikis gali sukelti išsamią loginę ir atminties grandinę.

Ši plėtra žymi pirmąjį „Samsung“ įsivilią į aukštą NA EUV technologiją, anksčiau atlikusi grandinių apdorojimo tyrimus bendradarbiaudamas su IMEC.„Samsung“ siekia panaudoti savo įrangą, kad pagreitintų pažangų mazgų kūrimą, orientuota į 1,4 nm proceso komercializavimą iki 2027 m., Ir galimai paruošti kelią 1 nm gamybai.

Pasauliniu mastu konkurencija kyla tarp puslaidininkių milžinų, tokių kaip TSMC, „Intel“ ir „Samsung“, nes jie lenktyniauja norėdami įsigyti aukštą NA EUV įrangą sub-2NM procesams.„Intel“ pirmavo įsigijęs pirmąjį „High NA EUV“ aparatą 2023 m. Gruodžio mėn., O TSMC sekė trečiąjį 2024 m. Trečiąjį ketvirtį. Nors „Samsung“ įsakymas atsirado vėliau, stabili gamyba gali pasirodyti esminė kuriant pramonės lyderystę.

„Samsung“ planuoja naudoti aukštą NA EUV įrangą, kurią ji gauna 2025 m. Pradžioje tyrimų tikslais, o netrukus po to ketina pristatyti specialią gamybos įrangą.Per trečiojo ketvirčio 2024 m. Susitikimą su ASML, „Samsung“ nurodė, kad jis persvarstys didelių NA EUV mašinų skaičių, kurį iš pradžių planavo įsigyti, o tai gali sumažinti pradinę tvarką dviem vienetais.Iš pradžių bendrovė ketino pristatyti EXE: 5000 iki 2024 m. Ketvirtojo ketvirčio, ​​o vėlesni modeliai EXE: 5200, Exe: 5400 ir Exe: 5600, tikimasi, bus pristatytas per ateinantį dešimtmetį.